国产EDA技术先驱 | 培风图南半导体

5月8日，国际 EDA 研讨会 ISEDA 2026在狮城新加坡盛大举行。培风图南（以下简称 PFTN）携核心产品及解决方案亮相，与全球顶尖的专家学者与领军企业，共同探讨先进制程下的技术突破。会议期间，来自全球的专业观众接连到访，展台交流热度持续攀升。

在专题演讲环节，PFTN发表了题为《Modernizing TCAD: High-Performance Solvers and GPU-Accelerated Architectures for Sub-2nm Technology Development》的技术报告，向世界展示了 PFTN 在制造类 EDA 工具链技术开发领域的最新成果与前瞻布局。

报告深度解析了随着半导体工艺迈向 2nm 及以下节点，新材料、复杂工艺设备以及三维器件结构被快速引入，材料、工艺、器件与设计之间形成了高度耦合的多维设计空间，也对仿真能力提出了更高要求。针对传统求解器在计算规模和物理建模上的瓶颈，PFTN 提出了全新的现代化TCAD路线图。

PFTN介绍了一套面向先进工艺节点的TCAD框架。该框架通过引入 GPU 加速计算架构，大幅提升仿真效率。同时，通过结合能够处理多尺度、多物理场耦合问题的新型求解器，用户可以更准确地模拟先进半导体制造过程中的关键物理现象。这些技术能够有效支撑更复杂、更精细的工艺与器件开发需求。

此外，PFTN还展示了如何将这些先进仿真工具整合到新一代协同优化DTCO体系中，实现从基础物理研究到工业级工艺开发之间的衔接。通过构建可扩展、高性能的AI仿真预测平台，为下一代半导体工艺技术研发奠定了坚实基础。

期间，半导体领域享誉国际的知名专家——A*STAR 行政副总裁、新加坡国立大学（NUS）Yee-Chia Yeo 教授亲临 PFTN B2展台并为公司技术背书。

Yee-Chia Yeo 教授曾任职于台积电（TSMC）及英国电信实验室，拥有88项美国专利并发表过370余篇学术论文，两次荣获 IEEE Paul Rappaport 奖。作为应变沟道、高迁移率晶体管等领域的奠基人之一，Yee-Chia Yeo 教授对 PFTN 在 2nm TCAD 及 DTCO 领域的创新给予了高度评价。

我们坚信，在先进制程时代，设计与工艺的壁垒必须通过双向协同来打破。PFTN 致力于交付真正能落地的技术服务，通过提供 DTCO 一站式“软件+服务” 完整解决方案，助力客户在 2nm 时代实现更快、更省、更优的芯片制造开发。

从新加坡出发，面向全球半导体产业链。PFTN 将继续深耕 EDA 底层技术，深化产业合作，持续提升核心竞争力与市场影响力，携手行业伙伴共同塑造 2nm 时代高质量发展新篇章。